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第170章 EUV光刻机?

作品:科技帝国从山寨系统开始作者:默然的冷灰
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可不简单,大夏发明它后可以说立刻站在了世界激光领域的前沿。

其在二零零九年中断KBBF晶体出售后,更是让美迪国的激光研究被迫停止十五年!

直到十五年后,他们才研究出新的激光晶体替代大夏的 KBBF晶体,重新开始激光的大规模研究。

所以大夏的激光技术实际上并不弱,无论是现在还是后世都处于世界领先一流层次。

其中大夏的激光产品销售也是长期达到了全球市场的百分之五十,可以说这是少有的技术领先情况!

“不行, KBBF激光晶体造不了光刻机, KBBF晶体的激光太勐了,射出的激光(EUV)极深紫外光太过锋利。

一不小心就会损坏整个芯片无法使用,除非我们的控制精度与对准成像系统能达到让人惊讶的程度,否则极深紫外光我们绝对无法使用。”

目前市面上的光刻机采用的是紫外光源,紫外光源分为紫外光(EV),深紫外光(DUV),极紫外光(EUV)。

其中光源越到后面波长就越短,光刻的刀也就越锋利,对于精度的控制要求就越高。

所以目前世界上没有光刻机采用极深紫外光(EUV),作为光源制作光刻机。

毕竟以目前几十纳米的制程工艺,也不需要这样高精密的光刻机,目前绝大部分光刻机还是使用紫外光(EV)。

只有最前沿的45纳米制程工艺,才使用EUV之前的深紫外光源,也既是DUV光刻机。

至于更下一步EUV光刻机,那目前更是没有,之所以没有,这是因为目前没有这方面的需求。

当然真实原因是想研发这样的EUV光刻机需要的成本也太高,不下于从零开始设计研发,所以目前市面上并没有这样的EUV光刻机出现。

“没错,光刻机可不容易制造,你可能是其他领域的,所以有些想当然了,光是镜片就能把我们卡死。”

此时人群前排的一个博士,也说出了想造光刻机不容易。

在他看来光刻机最难的就是镜头部分。

光刻机需要的镜面误差十分之小,镜面误差不能大于零点零五微米。

这误差的范围用个形象的比喻,如果把镜面误差比喻成天涯海角岛的话,那么整个天涯海角岛的平整度误差不能大于十毫米!

而最为恐怖的是这样的镜片不只是一个,因为镜片这东西其实是有成像误差的,这成像误差在光刻生产环节的影

…。。
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