在IBM工作的林本坚也不能放过。
这位对于浸没式光刻技术有鬼才一般的想法，必须要招揽。
此时，这位天才就有了浸没式光刻技术的想法。
当芯片制程卡在65nm之际，林本坚看到浸没式光刻技术的机会。
为解决技术难题、消除厂商疑虑，林本坚还花费半年时间带领团队发表3篇论文。
当时，业界质疑水作为一种清洁剂，会把镜头上的脏东西洗出来，还有人担忧水中的气泡、光线明暗等因素会影响折射效果。
而根据林本坚团队的研究，他们提出一种曝光机，可以保持水的洁净度和温度，使水不起气泡。
虽然这种曝光机并未在实际中被采用，但林本坚的研究证明技术上的难题是可以被解决的。
他还亲自奔赴美国、日本、德国、荷兰等地，向光刻机厂商介绍浸没式光刻的想法，但是，有能力进行研发的大厂普遍不买账。
个中原因也不难理解，自20世纪60年代起，玩家入局光刻机市场，在干式光刻技术上投入大量财力、人力、物力，好不容易踏出一条可行的技术路线。
如果按照林本坚“加水”的想法，各位前辈就得“一夜回到解放前”，从技术到设备重新探索，很少有人舍得这么高的沉没成本。
但是，“很少有人”不代表“没有人”。
但偏偏阿斯麦就是这么一个敢吃螃蟹的人，比如EUVLLC联盟里，美国成员构成主体。
在对外国成员的选择上，英特尔和白宫产生分歧。
英特尔看中阿斯麦和尼康在光刻机领域的经验，想拉他们入伙，但白宫认为如此重要的先进技术研发不该邀“外人”入局。
此时，阿斯麦显示出惊人的前瞻能力，它向美国佬表示：我愿意出资在你们村建工厂和研发中心，并保证55%的原材料都从美国采购，只求你们研究EUV时一定要带我玩。
北欧同志如此的诚意让美国佬难以拒绝，就这样，阿斯麦成为EUVLLC里唯二的两家非美国公司之一，另一家是德国公司英飞凌。
尽管EUVLLC证明用极紫外线作为光源造光刻机是可行的，但却没指出一条明路。
时间过去好几年，EUV光刻机还是连个影子都没有，但巨额的研发资金、难以跨越的技术瓶颈已经足以让大多数玩家望而却步。
但是，阿斯麦还是不死心，并且决定要牵头欧洲的EUV研发项目。
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