江宇自然知道他们做成了什么光刻机。
当然是浸没式光刻机。
由军方企业参与部件制造，光刻机的制作成功也就水到渠成了。
就算江宇提前十年布局，但因为华国制造业的落后，一些部件制造不出来，就是提前十年也直到今天才研究成功。
也只是研究出来了，估计要批量生产还得两年。
「能生产芯片吗？」
「可以生产134纳米的芯片，不过它还不能量产。」
「这个不急，能成功就行，我再给你们几年时间调试改良，奥运会时候能量产就行。」
「江总！这东西就是量产，一年也造不出几台呀，太复杂了，就是部件生产这个问题解决都不容易。」
湿式光刻机指望一家企业生产出来不现实，里面的部件太多了。
「到时候能造一台算一台，不用着急。」
这算是一个天大的好消息了，只是现在到处都在封路他不能亲自去渤海研究院看看是个遗憾。
研究院研究成功了浸没式光刻机，那么起码十NM以上的芯片就没有问题了，哪怕华国不在研究光刻机，到二零二五年也够用了。
毕竟大部分机器设备上使用的芯片都在14纳米到一百纳米之间。
至于再小的芯片，除了手机上使用外，再无一点用处。
但不往下研究光刻机是不可能的，浸没式研究成功了，下一步自然就是极紫外线光刻机。
下一代光刻机要研发成功，没有五百亿怕是不可能成功。