。
光刻机进步的重要标志就是它光刻分辨力，光刻机的分辨能力越高，它便能在一块硅芯片内集成越密集的电路，与此同时，随着分辨能力的提升，光刻机内部结构的复杂程度越发恐怖。
2001年第七代光刻机：130纳米；
2005年第八代光刻机：90纳米；
2007年第九代光刻机：65纳米；
2010年第十代光刻机：45纳米；
2013年第十一代光刻机：32纳米；
2015年第十二代光刻机：22纳米；
……。
光刻机几乎以每两三年递进一代的速度，并不断向更高纳米级的分辨能力发展，光刻机行业如此迅猛的发展速度，是无数电子设备用户的福音，却是众多光刻机行业从业者的噩梦。
当2017年第十三代10纳米级光刻机还没有成为主流的时候，四方大厦所在实验室的5纳米光刻机绝对是人类最复杂的设备之一。
5纳米光刻机的内部构造就像人脑内部神经网络，大大小小，数千件零件精密链接组成，若无资深‘脑科医生’的指引操作，没人能从这么多零件中看出每一个零件的功能。
五人组严格按照周兴的指示进行拆卸操作，他们就像机器人一样对周兴命令言听计从，干完活之后，若没得到特别他指示，他们绝不敢对光刻机擅自妄动。