的结果。
其实浸入式光刻技术在1984年就由日本人Takanashi在一项美国专利中提出了，他定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。
发明专利的时效只有20年，只可惜这项专利诞生的“过早”，前世真正意义上的浸入式光刻要在若干年后才会出现，Takanashi也因此与巨额专利费擦肩而过。
但这一世呢，仓耀祖已经让葛栗琴的律师事务所买断了这个专利，虽然专利时效只有不到8年了，但8年时间也足够了。
现在的浸入式光刻之所以不被重视，是因为人们找不到好的浸入液，比如浸入液是环辛烷的话。浸入液的充入、镜头的沾污、光刻胶的稳定性和气泡的伤害等关键问题很难解决，因此，人们对浸入式光刻并没有什么深入的研究。
现在的主流技术是干式光刻，无论是尼康、佳能还是阿斯麦都是如此。如果能找到好的浸入液，那么，在高端光刻领域，浸没式光刻就是干法光刻的完美替代技术，而新旧技术的替代带来的就是光刻机的完全垄断。
林本坚在2002年后提出了以折射率为1.44的去离子水为浸入液的方案，比较完美地解决了浸入式光刻的其它问题，此举彻底改变了光刻行业以及整个半导体行业。这是一项很伟大的改进，可以说，打败尼康光刻机和佳能光刻机的就是这简单而又神奇的去离子水。
什么是去离子水呢，就是去除了离子的水。因为水是一种万能的溶剂，在自然界的水中会溶解有很多种类的盐类，而这些盐类在水中均有一定程度的电离现象，从而产生很多种类的阴阳离子。所以，溶解了盐类物质的水是可以导电的，这不利于光刻的进行。
那去离子水就不导电了吗？当然还是导电的，只不过去离子水的导电能力就很弱了，是介于导电体和绝缘体之间的半导体。
林本坚生于1942年，祖籍潮汕，长于西贡，求学于湾湾，就职于IBM22年，1992年他50岁时提前退休，现在创建了领创公司。
仓耀祖准备这两天就亲自去见见林本坚先生，并收购他的领创公司，为邀请他加盟清微半导体扫清障碍，铺平道路。
仓耀祖盯上湾湾那边的半导体人才也是没办法的事情，主要是国内这方面的人才培养出现了断层，确实是没有什么能独当一面的人物，因为实在是没有这个成长环境啊。
基本上把半导体领域的事情搞了个大概以后，仓
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