我想问一下，怎么确保有源层和薄膜层的厚度和周期性排列顺序呢？使用离子注入机来保证基底的分子缺损可以吗？】
【请问衬底除了氮化硅材料外，还有其他的材料可以进行代替吗？】
【我的手学不会，但他给你点赞了！】
【主播你这么厉害，能不能给我造个女朋友？】
【你居然真的想教会我们？】
【害，白嫖失败！算了，主播，手我已经剁下来给你寄过去了，请让他学会后再还给我。】
【楼上你这么迟啊，上一次我就将脑袋剁了邮寄给主播了。】
【哦，对了，主播，学湖里制备锂硫电池的脑壳赶快发货还给我，我还没学废！】
......
虚拟屏幕上，一片各种调侃中掺杂了一两条科研人员那极不起眼的求知弹幕。
可惜数量还是太少，根本就没有被韩元注意到。
初步讲完制备大体的制备流程后，韩元便已经开始了‘分布式式布拉格反射镜’的基底制造。
基底使用的材料是氮化硅。
氮化硅是一种无机结构材料，硬度大，本身具有润滑性，并且耐磨损。
除此之外，它还是一种原子晶体材料，而且除氢氟酸与热磷酸外，它不与其他无机酸反应，抗腐蚀能力极强。
最重要的是，虽然制取难度有点高，但制备氮化硅的原材料都烂便宜。
氮化硅材料作为基底，自然是第一步要处理的。
高纯度的氮化硅材料材料在昨天韩元就已经处理好了，今天需要做的是给基底做第一层离子注入镀层。
使用的方法自然是‘电热-离子渗透法’，在没有高能离子注入机的时候，这种方法是目前最优的选择。
本来这一步是不必放到无尘工作室来处理的，在普通环境下就可以。
只不过在进行过程中，需要有人时刻盯着时间和给离子溶液添加材料。
而昨天韩元在制造基础材料，根本就没有时间来管，所以只能放到今天来处理了。
一边处理氮化硅基底，韩元一边借助之前才开发出来不久的‘一心多用’能力处理其他的材料。
在基底之上的‘有源层’，他使用的是磷化砷铟材料。
相对于其他的砷化物来说，磷化砷铟复合材料的毒性较弱，而且聚光线性更强一些。
最重要的是，磷化砷铟复合材料是一种固溶体。
…。。